Tải bản đầy đủ (.pptx) (25 trang)

Tổng quan về quang khắc

Bạn đang xem bản rút gọn của tài liệu. Xem và tải ngay bản đầy đủ của tài liệu tại đây (972.8 KB, 25 trang )

KHOA CÔNG NGHỆ ĐIỆN TỬ
TIỂU LUẬN MÔN HỌC

CÔNG NGHỆ VI ĐIỆN TỬ
Tổng quan về quang khắc


Nhóm 6

GVHD: TS. Nguyễn Minh Ngọc


Photolithography & Etching



Quang khắc, chất cản quang resist, thiết bị, qui trình?
Giới hạn và những lỗi trong quá trình quang khắc? Phân biệt ăn mòn ướt
và ăn mòn khô?







1. Tổng quan về quang khắc
 Quang khắc là kĩ thuật sử dụng bức xạ ánh sáng làm biến đổi các chất cản quang phủ trên bề mặt để tạo ra
các chi tiết giống như thiết kế.





 Do ảnh hưởng của nhiễu xạ ánh sáng nên phương pháp quang khắc không cho phép tạo các chi tiết nhỏ
hơn micro mét, vì vậy phương pháp này còn được gọi là quang khắc micro (micro photolithography)










2. Quy trình quang khắc
Các bước cơ bản của quy trình quang khắc

1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
9.

Chuẩn bị bề mặt
Ứng dụng chất cản quang
Sấy sơ bộ (soft bake)

Định vị mặt nạ và phơi sáng
Tráng rửa
Sấy sơ bộ lần 2 (hard bake)
Kiểm tra
Phủ lớp bảo vệ
Kiểm tra lần cuối




Chuẩn bị bề mặt & phủ chất cản quang


Bề mặt của đế sau khi xử lý được phủ một hợp chất hữu cơ gọi
là chất cản quang (photoresist)
Chất cản quang:
Là một hợp chất hữu cơ có tính nhạy quang
Tính chất bị thay đổi khi chiếu các bức xạ thích hợp
Bền trong môi trường kiềm và axit






 Chất cản quang thường được phủ lên bề mặt wafer bằng kĩ thuật quay phủ (spincoating).





CHẤT
CẢN QUANG


CẢN QUANG DƯƠNG:

CẢN QUANG ÂM: chất

chất cản quang sau khi

cản quang sau khi bị ánh

bị ánh sáng chiếu vào

sáng chiếu vào không bị

sẽ bị hòa tan trong các

hòa tan trong các dung

dung dịch tráng rửa

dịch tráng rửa





Sấy sơ bộ (Soft Bake)


Quy trình nhiệt độ tiêu chuẩn:

20 phút đầu: nhiệt độ 90-100 oC , trong một lò đối
lưu

45 giây sau: nhiệt độ 75-85oC , trên một tấm kim
loại nóng
Trong thương mại, người ta thường nung nóng bằng lò
vi sóng hoặc đèn hồng ngoại.





Định vị mặt nạ và phơi sáng
Trong giai đoạn này, hệ sẽ được chiếu ánh sáng để chuyển hình ảnh lên nền,
mặt nạ được đặt giữa hệ thấu kính và
nền.
Có 3 phương pháp chiếu dựa vào vị trí đặt mặt nạ:
Mặt nạ tiếp xúc
Mặt nạ đặt cách chất cảm quang một khoảng cách nhỏ
Mặt nạ đặt cách xa chất cảm quang, ánh sáng được chiếu qua hệ thấu
kính.












Bộ đỡ dùng để định vị mặt nạ vào wafer sử dụng kĩ thuật đồng chỉnh (mask
aligner)


Quá trình ăn mòn

 Có hai phương pháp ăn mòn chính là : ăn mòn ướt và ăn mòn khô.


 Ăn mòn ướt 
Ngay từ công đoạn phiến vừa mới được cưa ra khỏi thỏi sili con từ nhà máy sản xuất
phiến, các hóa chất đã được sử dụng để mài nghiền và đánh bóng. Cuối cùng chúng ta
thu được một tấm silicon phẳng và nhẵn.
Đối với những thiết bị đơn lẻ hoặc mạch tích hợp có kích thước đủ lớn (> 3 µm), hoá
chất ăn mòn được sử dụng để khắc những hoạ tiết và mở cửa sổ trên lớp vật liệu điện
môi.




 Ăn mòn khô:
Tấm silicon được đưa vào trong buồng chân không, sau đó hỗn hợp khí dùng cho ăn
mòn được đưa vào trong buồng phản ứng.
Ở chân không thích hợp, dưới tác dụng của nguồn cao tần, khí ăn mòn bị ion hoá và
chúng ta thu được hỗn hợp plasma của khí nói trên bao gồm các ion F+ do đó SiO2 hoặc
Si … bị ăn mòn và tạo ra các sản phẩm phản ứng tương ứng.





Tráng rửa

Dùng hóa chất tách các chất cảm quang chưa đóng rắn
Các thông số kiểm soát trong quátrình rửa: nhiệt độ, thời gian, phương

pháp và hóa chất để rửa.
Có 2 phương pháp rửa: phương pháp nhúng (đưa trực tiếp dung dịch
rửa) và phương pháp phun.




Sấy sau khi hiện ảnh


 Mục

đích của bước này là làm cho lớp cảm quang cứng hoàn toàn, đồng

thời tách toàn bộ dung môi ra khỏi chất cản quang


3. Ứng dụng của quang khắc


Chế tạo vi mạch điện tử trên miếng Si

Chế tạo các linh kiện vi cơ điện

tử (MEMS)

(Microelectromechical System)
Chế tạo các chi tiết nhỏ trong ngành khoa học công
nghệ và vật liệu




Ưu và nhược điểm


Ưu điểm: Tạo ra vật liệu kích cỡ micromet với độ chính xác cao.
Nhược điểm: Không thể chế tạo các linh kiện với kích thước nano



Trong công nghệ quang khắc ảnh hưởng của các yếu tố bên ngoài như độ
ẩm, nhiệt độ phòng, độ sạch của phòng cho đến các thông số trong quá
trình quang khắc như thời gian chiếu sáng, tốc độ quay phủ, nhiệt độ
nung mẫu đều ảnh hưởng lớn đến chất lượng của màng.


Tài liệu bạn tìm kiếm đã sẵn sàng tải về

Tải bản đầy đủ ngay
×